Trifenilsulfônio, 2-hidroxibenzoato (1:1) CAS#: 345580-99-6; ChemWhat Código: 1491753
identificação
| Nome do Produto | Trifenilsulfônio, 2-hidroxibenzoato (1:1) |
| Nome IUPAC | 2-carboxifenolato;trifenilsulfânio |
| Estrutura molecular |  |
| Número do CAS Registry | 345580-99-6 |
| Número EINECS | Não existem dados disponíveis |
| Número MDL | Não existem dados disponíveis |
| Número de Registro Beilstein | Não existem dados disponíveis |
| Sinônimos | trifenilsulfônio 2-hidroxibenzoato salicilato de trifenilsulfônio |
| Fórmula Molecular | C25H20O3S |
| Peso molecular | 400.5 |
| InChI | InChI=1S/C18H15S.C7H6O3/c1-4-10-16(11-5-1)19(17-12-6-2-7-13-17)18-14-8-3-9-15-18;8-6-4-2-1-3-5(6)7(9)10/h1-15H;1-4,8H,(H,9,10)/q+1;/p-1 |
| Chave InChI | KKLIEUWPBXKNFS-UHFFFAOYSA-M |
| Canônico SMILES | C1=CC=C(C=C1)[S+](C2=CC=CC=C2)C3=CC=CC=C3.C1=CC=C(C(=C1)C(=O)O)[O-] |
| Informação de Patentes | ||
| ID da patente | Título | Data de publicação |
| TW2025 / 28287 | Composição da resina, filme, método de formação de padrões e método de fabricação de dispositivos eletrônicos | 2025 |
| KR2024 / 76711 | CARBOXILATO, GERADOR DE ÁCIDO CARBOXÍLICO, COMPOSIÇÃO DE RESISTÊNCIA E MÉTODO PARA PRODUÇÃO DE PADRÃO DE RESISTÊNCIA | 2024 |
Dados físicos
| Aparência | Pó branco a esbranquiçado |
| Solubilidade | Não existem dados disponíveis |
| Ponto de inflamação | Não existem dados disponíveis |
| Índice de refração | Não existem dados disponíveis |
| à Taxa de juros | Não existem dados disponíveis |
Spectra
| Não existem dados disponíveis |
Rota de Síntese (ROS)
| Condições | Rentabilidade |
| Com bicarbonato de sódio Em água a 20℃; por 1.16667h; Procedimento experimental Síntese do sal de sulfônio D-1 Adicionou-se água pura a 10.0 g (72.4 mmol) de ácido salicílico e 6.1 g (72.4 mmol) de bicarbonato de sódio, e a mistura foi agitada por 10 minutos. Em seguida, adicionaram-se 21.6 g (72.4 mmol) de cloreto de trifenilsulfônio. Após agitação à temperatura ambiente por 1 hora, as fases foram separadas e a fase orgânica resultante foi lavada com água pura. O solvente foi então removido utilizando um evaporador rotativo para obtenção do produto bruto. O produto bruto resultante foi purificado por cromatografia em gel de sílica para obtenção de 27.2 g (rendimento de 94%) do produto desejado (sal de sulfônio D-1). | 94% |
Segurança e Riscos
| Pictogramas) |   |
| Signal | perigo |
| Declarações de perigo GHS | H301 (88.9%): Tóxico por ingestão [Perigo Toxicidade aguda, oral] H315 (11.1%): Causa irritação na pele [Aviso Corrosão / irritação da pele] H319 (11.1%): Provoca irritação ocular grave [Aviso Lesões oculares graves / irritação ocular] As informações podem variar entre as notificações, dependendo de impurezas, aditivos e outros fatores. |
| Códigos de Declaração de Precaução | P264, P264+P265, P270, P280, P301+P316, P302+P352, P305+P351+P338, P321, P330, P332+P317, P337+P317, P362+P364, P405 e P501 (A declaração correspondente a cada código P pode ser encontrada no Classificação GHS página.) |
Outros dados
| Transporte | NONH para todos os modos de transporte |
| Sob a temperatura ambiente e longe da luz | |
| codigo hs | Não existem dados disponíveis |
| Armazenamento | Sob a temperatura ambiente e longe da luz |
| Shelf Life | 2 Anos |
| Preço de mercado | USD |
| Similaridade às drogas | |
| Componente de regras de Lipinski | |
| Peso molecular | 400.498 |
| log P | 6.693 |
| HBA | 2 |
| HBD | 1 |
| Regras de Lipinski correspondentes | 3 |
| Componente de regras Veber | |
| Área de superfície polar (PSA) | 60.36 |
| Bond rotativo (RotB) | 4 |
| Regras correspondentes do Veber | 2 |
| Use o padrão |
| I. Função principal: Gerador de fotoácido (PAG) Este composto é um gerador de fotoácido (PAG) à base de sal de trifenilsulfônio. Sob irradiação UV ou UV profundo (DUV): Absorve luz e sofre clivagem fotolítica. Gera um ácido forte O ácido gerado pode catalisar reações quimicamente amplificadas ou iniciar a polimerização catiônica subsequente. É um aditivo funcional essencial em sistemas de cura de fotorresistentes e fotopolímeros catiônicos. II. Principais Áreas de Aplicação 1. Fotorresistentes semicondutores (fotorresistentes quimicamente amplificados, CARs) Aplicável a: Sistemas de litografia i-line, KrF e ArF Fotorresistentes quimicamente amplificados de alta resolução Funções principais: Geração de ácido após exposição Catalisa reações de desproteção Amplifica os efeitos de exposição → melhora a resolução, a sensibilidade e o controle da dimensão crítica/rugosidade da borda da linha (CD/LER). Vantagens da estrutura do orto-hidroxibenzoato: Proporciona boa fotossensibilidade Reduz a difusão do ácido, melhorando a resolução. Atua em sinergia com o cátion trifenilsulfônio → boa estabilidade térmica e desempenho estável do fotorresiste. 2. Sistemas de fotopolimerização catiônica Utilizado na cura catiônica induzida por UV de resinas epóxi e sistemas de éter vinílico. Irradiação UV → geração de ácido → inicia a polimerização catiônica por abertura de anel ou reticulação As aplicações incluem: Revestimentos e tintas curáveis por UV Materiais de encapsulamento eletrônico Camadas isolantes fotopadrão (ex: PSPI, PI) |
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