TBPDPS-PFBS CAS#: 258872-05-8; ChemWhat Código: 1499782
identificação
| Nome do Produto | TBPDPS-PFBS |
| Nome IUPAC | (4-tert(-butilfenil)-difenilsulfânio; 1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutano-1-sulfonato |
| Estrutura molecular |  |
| Número do CAS Registry | 258872-05-8 |
| Número EINECS | Não existem dados disponíveis |
| Número MDL | Não existem dados disponíveis |
| Número de Registro Beilstein | Não existem dados disponíveis |
| Sinônimos | Sal de di-p-tolil iodônio: sulfonato de perfluorobutila (1:1) difenil 4-terc-butilfenilsulfônio nonafluorobutanossulfonato (4-terc-butilfenil)-difenilsulfânio; 1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutano-1-sulfonato (4-(terc-Butil)fenil)difenilsulfônio 1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutano-1-sulfonato difenil 4-terc-butilfenilsulfônio nonafluorobutanossulfonato Sulfonium, [4-(1,1-Dimethylethyl)Phenyl]Diphenyl-,1,1,2,2,3,3,4,4,4-Nonafluoro-1-Butanesulfonate (1:1) |
| Fórmula Molecular | C26H23F9O3S2 |
| Peso molecular | 618.6 |
| InChI | InChI=1S/C22H23S.C4HF9O3S/c1-22(2,3)18-14-16-21(17-15-18)23(19-10-6-4-7-11-19)20-12-8-5-9-13-20;5-1(6,3(9,10)11)2(7,8)4(12,13)17(14,15)16/h4-17H,1-3H3;(H,14,15,16)/q+1;/p-1 |
| Chave InChI | GXZZZWUTJCPYHC-UHFFFAOYSA-M |
| Canônico SMILES | CC(C)(C)C1=CC=C(C=C1)S+C3=CC=CC=C3.C(C(C(F)(F)S(=O)(=O)[O-])(F)F)(C(F)(F)F)(F)F |
| Informação de Patentes | ||
| Não existem dados disponíveis |
Dados físicos
| Aparência | Pó branco a esbranquiçado |
| Solubilidade | Não existem dados disponíveis |
| Ponto de inflamação | Não existem dados disponíveis |
| Índice de refração | Não existem dados disponíveis |
| à Taxa de juros | Não existem dados disponíveis |
Spectra
| Não existem dados disponíveis |
Rota de Síntese (ROS)
| Não existem dados disponíveis |
Segurança e Riscos
| Declarações de perigo GHS | Não classificado |
Outros dados
| Transporte | NONH para todos os modos de transporte |
| Sob a temperatura ambiente e longe da luz | |
| codigo hs | Não existem dados disponíveis |
| Armazenamento | Sob a temperatura ambiente e longe da luz |
| Shelf Life | 2 Anos |
| Preço de mercado | USD |
| Similaridade às drogas | |
| Não existem dados disponíveis |
| Use o padrão |
| Utilizado como gerador de fotoácido (PAG) em sistemas de fotorresistência quimicamente amplificados para litografia avançada de semicondutores. |
| Ao ser exposto à luz ultravioleta (UV) ou ultravioleta profunda (DUV), gera ácidos fortes que iniciam reações de desproteção catalítica em materiais fotorresistentes, permitindo a formação de padrões de alta resolução. |
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