Sulfônio, [4-[1-(difluorossulfometil)-2,2,2-trifluoroetoxi]fenil]bis[4-(1,1-dimetiletil)fenil]-, sal interno CAS#: 1465790-38-8; ChemWhat Código: 1491743

identificaçãoDados físicosSpectra
Rota de Síntese (ROS)Segurança e RiscosOutros dados

identificação

Nome do ProdutoTrifenilsulfônio (3-hidroxitriciclo[3.3.1.13,7]decano-1-metoxicarbonil)difluorometano sulfonato
Nome IUPAC
Estrutura molecularEstrutura do sulfônio, [4-[1-(difluorossulfometil)-2,2,2-trifluoroetoxi]fenil]bis[4-(1,1-dimetiletil)fenil]-, sal interno CAS 1465790-38-8
Número do CAS Registry 912290-04-1
Número EINECSNão existem dados disponíveis
Número MDLNão existem dados disponíveis
Número de Registro BeilsteinNão existem dados disponíveis
Sinônimosbis(4-tert-butylphenyl)-{4-(1,1,3,3,3-pentafluoro-1-sulfonatopropan-2-yloxy)phenyl}-sulfonium
Fórmula MolecularC29H31F5O4S2
Peso molecular602.68
InChI
Chave InChIWNLKKPXMQEKEKRJ-UHFFFAOYSA-N
Canônico SMILES
Informação de Patentes
Não existem dados disponíveis

Dados físicos

AparênciaPó branco a esbranquiçado
SolubilidadeNão existem dados disponíveis
Ponto de inflamaçãoNão existem dados disponíveis
Índice de refraçãoNão existem dados disponíveis
à Taxa de juros Não existem dados disponíveis

Spectra

Não existem dados disponíveis

Rota de Síntese (ROS)

Não existem dados disponíveis

Segurança e Riscos

Declarações de perigo GHSNão classificado

Outros dados

TransporteNONH para todos os modos de transporte
Sob a temperatura ambiente e longe da luz
codigo hsNão existem dados disponíveis
ArmazenamentoSob a temperatura ambiente e longe da luz
Shelf Life2 Anos
Preço de mercadoUSD
Similaridade às drogas
Componente de regras de Lipinski
Peso molecular602.687
log P10.365
HBA3
HBD0
Regras de Lipinski correspondentes2
Componente de regras Veber
Área de superfície polar (PSA)34.14
Bond rotativo (RotB)10
Regras correspondentes do Veber2
Use o padrão
Função principal: Gerador de fotoácido (PAG)
Absorve luz e sofre clivagem fotolítica.
Produz um ácido forte (ácido difluorometanossulfônico)
O ácido gerado pode catalisar reações quimicamente amplificadas ou iniciar a polimerização catiônica subsequente. É um aditivo funcional essencial em sistemas de cura de fotorresistentes e fotopolímeros catiônicos.
II. Principais Áreas de Aplicação
1. Fotorresistentes semicondutores (fotorresistentes quimicamente amplificados, CARs)
Aplicável a:
Sistemas de litografia i-line, KrF e ArF
Fotorresistentes quimicamente amplificados de alta resolução
Funções principais:
Geração de ácido após exposição
Catalisa reações de desproteção
Amplifica os efeitos de exposição → melhora a resolução, a sensibilidade e o controle da dimensão crítica/rugosidade da borda da linha (CD/LER).
Vantagens da estrutura adamantílica:
Proporciona alta estabilidade térmica.
Reduz a difusão do ácido → melhora a resolução e a rugosidade da borda da linha.
Melhora o desempenho óptico e a estabilidade da formulação de fotorresistentes.
Sistemas de fotopolimerização catiônica
Utilizado na cura catiônica induzida por UV de resinas epóxi e materiais de éter vinílico.
Irradiação UV → geração de ácido → inicia a polimerização catiônica por abertura de anel ou reticulação
As aplicações incluem:
Revestimentos e tintas curáveis ​​por UV
Materiais de encapsulamento eletrônico
Camadas isolantes fotopadrão (ex: PSPI, PI)

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